工業氣體在國家標準(zhun)《常用危險化學品的分類及標志》（GB13690-1992）中，通常被劃為第2類壓(ya)(ya)(ya)(ya)縮(suo)(suo)(suo)氣(qi)(qi)體(ti)和(he)液(ye)(ye)化(hua)氣(qi)(qi)體(ti)。 這(zhe)(zhe)類化(hua)學品系指(zhi)壓(ya)(ya)(ya)(ya)縮(suo)(suo)(suo)、液(ye)(ye)化(hua)或(huo)加壓(ya)(ya)(ya)(ya)溶(rong)解的氣(qi)(qi)體(ti)。氣(qi)(qi)體(ti)經加壓(ya)(ya)(ya)(ya)或(huo)降低溫度，可以(yi)使氣(qi)(qi)體(ti)分子(zi)間的距離大大縮(suo)(suo)(suo)小而被壓(ya)(ya)(ya)(ya)入(ru)鋼瓶(ping)中(zhong)，這(zhe)(zhe)種氣(qi)(qi)體(ti)稱(cheng)為(wei)(wei)壓(ya)(ya)(ya)(ya)縮(suo)(suo)(suo)氣(qi)(qi)體(ti)（亦稱(cheng)為(wei)(wei)永(yong)久(jiu)氣(qi)(qi)體(ti)， 如(ru)(ru)氧(yang)氣(qi)(qi)、氮氣(qi)(qi)、氬(ya)氣(qi)(qi)、氫氣(qi)(qi)等）。對壓(ya)(ya)(ya)(ya)縮(suo)(suo)(suo)氣(qi)(qi)體(ti)繼續加壓(ya)(ya)(ya)(ya)， 適當降溫，壓(ya)(ya)(ya)(ya)縮(suo)(suo)(suo)氣(qi)(qi)體(ti)就會變成液(ye)(ye)體(ti)的，稱(cheng)為(wei)(wei)液(ye)(ye)化(hua)氣(qi)(qi)體(ti)（如(ru)(ru)液(ye)(ye)氯(lv)、 液(ye)(ye)氨、液(ye)(ye)體(ti)二氧(yang)化(hua)碳等）。此外，還有一種性質極為(wei)(wei)不穩定(ding)的氣(qi)(qi)體(ti)，加壓(ya)(ya)(ya)(ya)后需溶(rong)于溶(rong)劑(ji)中(zhong)儲(chu)存(cun)在(zai)鋼瓶(ping)內，這(zhe)(zhe)種氣(qi)(qi)體(ti)稱(cheng)為(wei)(wei)溶(rong)解氣(qi)(qi)體(ti)（如(ru)(ru)溶(rong)解乙炔等）

具體來說工業(ye)氣(qi)體可分為(wei)以(yi)下14種(zhong)：

        1. 特(te)種氣體(Specialty gases) ：指那些在特定領域中應(ying)用的, 對(dui)氣(qi)體(ti)有特殊要求的(de)純(chun)氣(qi)、高(gao)純(chun)氣(qi)或由高(gao)純(chun)單質氣(qi)體(ti)配制的(de)二元或多(duo)元混合氣(qi)。特種氣(qi)體(ti)門(men)類繁(fan)多(duo), 通常可區(qu)分為電(dian)子氣體、標準氣、環保氣、醫用氣、焊(han)接氣、殺菌氣等(deng), 廣(guang)泛(fan)用(yong)于電(dian)子、電(dian)力(li)、石油化工、采礦(kuang)、鋼鐵、有色金(jin)屬(shu)冶(ye)煉、熱(re)力(li)工程、生(sheng)化、環境(jing)監測、醫(yi)學研(yan)究及診斷、食品保鮮(xian)等領域。

        2、標準氣體(Standard gases) ：標準(zhun)氣體屬于標準(zhun)物質。標準(zhun)物質是高(gao)度(du)均勻(yun)的(de)、良好(hao)穩(wen)定和量值準(zhun)確的(de)測(ce)定標準(zhun), 它(ta)們具有復(fu)現、保(bao)存(cun)和傳遞量值(zhi)的基本作(zuo)用, 在物理、化學(xue)、生物與工程測(ce)量領域中用于校對( [準測(ce)量儀器和測(ce)量過(guo)程, 評(ping)價測(ce)量方法的準確(que)度和檢測(ce)實驗室的檢測(ce)能(neng)力, 確定材料(liao)或產品(pin)的特性(xing)量(liang)值, 進行量值仲裁(cai)等。大型(xing)乙(yi)烯(xi)廠(chang)、合成氨廠(chang)及其它石化企業(ye), 在裝置(zhi)開車、停(ting)車和正常生產過程中(zhong)需要幾十種純氣和幾+百種多組(zu)分標(biao)準(zhun)混合氣, 用來校準、定標生(sheng)產過程中使用的在線分析(xi)儀器和分析(xi)原料(liao)及(ji)產品(pin)質量的儀器。標準氣還可(ke)用于環境(jing)監測, 有毒的有機物測量, 汽(qi)車排放氣測試, 天然(ran)氣BTU 測(ce)量(liang), 液(ye)化石(shi)油氣(qi)校(xiao)正標準, 超臨(lin)界(jie)流體工藝(yi)等。標(biao)準氣(qi)視氣(qi)體組分數區分為二元(yuan)、三(san)元(yuan)和多(duo)元(yuan)標(biao)準氣(qi)體; 配氣(qi)準度要求以配氣(qi)允(yun)差(cha)和分(fen)析允(yun)差(cha)來表征;比較(jiao)通用的有SE2M I 配氣(qi)允(yun)差標準(zhun), 但各公司均有企業標準。組分的最低濃(nong)度(du)為(wei)10- 6級, 組分(fen)數可多達20余種配(pei)制方法(fa)可(ke)采用重(zhong)量法(fa), 然后用(yong)色譜分(fen)析校(xiao)核, 也(ye)可按標準傳(chuan)遞程序(xu)進(jin)行(xing)傳(chuan)遞。

        3、 電子氣體(ti)(Electronic gases) ：半導體(ti)(ti)(ti)(ti)工業用(yong)的氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)統稱電(dian)子(zi)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)。按其(qi)門類可分為純(chun)氣(qi)(qi)(qi)、高純(chun)氣(qi)(qi)(qi)和半導體(ti)(ti)(ti)(ti)特(te)殊材料(liao)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)三大類。特(te)殊材料(liao)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)主要用(yong)于外(wai)延(yan)、摻(chan)雜和蝕刻工藝；高純(chun)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)主要用(yong)作稀釋氣(qi)(qi)(qi)和運載(zai)氣(qi)(qi)(qi)。電(dian)子(zi)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)是特(te)種氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)的一個重要分支。電(dian)子(zi)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)按純(chun)度等級和使用(yong)場合，可分為電(dian)子(zi)級、LSI(大規模集(ji)成電路) 級、VLSI (超大規模集成電路) 級和ULSI (特大規模集成電路)級。
 

          4. 外延氣體(ti)(Cpitaxial gases) ：在(zai)仔(zi)細選擇的襯底上采(cai)用化(hua)學氣相淀積(CVD) 的方法生長一層(ceng)或多層(ceng)材料(liao)所(suo)用氣體(ti)稱為外延(yan)氣體(ti)。硅外延(yan)氣體(ti)有4 種, 即硅(gui)烷、二氯(lv)二氫(qing)硅(gui)、三氯(lv)氫(qing)硅(gui)和(he)四氯(lv)化硅(gui), 主要用于外(wai)延硅淀積, 多晶(jing)硅淀積, 淀積氧化硅膜, 淀積氮化(hua)硅(gui)膜, 太陽電池和其他光(guang)感受器的非(fei)晶硅膜淀(dian)積。外(wai)延生(sheng)長(chang)是一種單晶材料淀(dian)積并生(sheng)長(chang)在襯(chen)底(di)表面上的過程。此外(wai)延層的電阻(zu)率(lv)往(wang)往(wang)與襯(chen)底(di)不同。

  ;      5. 蝕(shi)刻氣體(Etching gases) ：蝕刻(ke)(ke)就是把(ba)基片上(shang)無光刻(ke)(ke)膠掩蔽的(de)加工表面如氧化(hua)硅(gui)膜、金屬(shu)膜等蝕刻(ke)(ke)掉, 而使有光刻(ke)膠掩蔽的區域(yu)保存下來, 這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本(ben)要求是, 圖形邊緣整齊, 線條清晰, 圖形變換差小, 且對(dui)光刻膠膜及其(qi)掩蔽保護的(de)表面(mian)無損傷和鉆(zhan)蝕(shi)(shi)。蝕(shi)(shi)刻方式有濕法(fa)化學(xue)蝕(shi)(shi)刻和干法(fa)化學(xue)蝕(shi)(shi)刻。干法(fa)蝕(shi)(shi)刻所用氣體(ti)稱(cheng)蝕(shi)(shi)刻氣體(ti), 通常多為(wei)氟化物氣體, 例如四氟(fu)(fu)(fu)化(hua)碳、三(san)氟(fu)(fu)(fu)化(hua)氮、六氟(fu)(fu)(fu)乙烷(wan)、全氟(fu)(fu)(fu)丙(bing)烷(wan)、三(san)氟(fu)(fu)(fu)甲烷(wan)等。干法蝕刻(ke)由于蝕刻(ke)方(fang)向性強、工(gong)藝(yi)控制精確、方(fang)便(bian)、無(wu)脫膠現(xian)象、無(wu)基片損傷和沾污(wu), 所以(yi)其應用范圍(wei)日益廣泛。